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CCU-010 HV高真空镀膜仪
全部分类
10.27

CCU-010 HV高真空镀膜仪

产品型号:
10.27
产品描述

紧凑型、模块化和智能化
CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。

特点
✬高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理
✬专利碳盘管–多达50次碳镀膜,无需用户干预
✬独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块
✬一流的真空性能和快速抽真空
✬结构紧凑、可靠且易于维修
✬双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品
✬主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间

巧妙的真空设计
CCU-010镀膜设备有两种型号。CCU-010LV精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计,而CCU-010HV高真空系统涵盖了最高级的SEM,TEM和薄膜应用。模块化的设计可将低真空单元很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。


LC-006金属大腔室
LC-006是当前玻璃腔室的扩大版,为铝制结构,壁厚8毫米,内径6.2英寸。这个金属腔室可容纳6"晶圆或其它大尺寸样品,而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。

 

溅射模块 SP-010 & SP-011
两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV和CCU-010 HV镀膜主体单元,即可使用。
SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能,连续喷涂时间长达50分钟-非常适合需要较厚膜的 应用。 可选多种溅射靶材,适合SEM、FIB和各种薄膜应用。
SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜,推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV镀膜主体单元。
SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时,推荐使用该溅射头。SP-011与CCU-010HV结合使用,可满足诸如DLC,ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。

CT-010碳蒸发模块
紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV和CCU-010 HV镀膜主体后,即可立即使用,适合SEM,TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专利、独特且技术领先的碳绳卷轴系统,可以进行多达数十次涂层的镀膜,而无需更换碳源。一段碳绳蒸发后,新的一段会自动前进,用过的碳绳会掉落到方便的收集盘中。除了易于使用外,自动卷轴系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全,从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度,并可避免火花引起的表面不均匀。

 

GD-010辉光放电模块
可选的GD-010辉光放电系统可快速安装,通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理,例如,使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理,无需“破”真空或更换处理头,极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010,与所有样品台兼容。

真空储存箱 HS-010
HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件,使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接,利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地,用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。

 

等离子刻蚀单元 ET-010
在对样品进行镀膜之前或镀膜之后,可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件,可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品,增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理,从而对碳膜表面进行改性。
例如,利用空气产生等离子体,可将碳膜从疏水改变为亲水。工作压力范围2E-1mbar-1mbar可调,等离子电流10至50mA可选。

 

Coating-LAB软件
使用基于PC的Coating-LAB软件,可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚,镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。

RC-010手套箱应用的远程控制软件
◎基于window的远程控制软件
◎创建和调用配方
◎实时图表,包含导出功能(Excel、png等)
◎自动连接到设备


 

可选多种样品台
CCU-010提供了一个直径80mm的样品台,该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。

CCU-010 HV高真空镀膜仪
CCU-010 HV 高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计,可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油,含高性能涡轮泵和前级隔膜泵,均位于内部,外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时,该设备可以保持在真空下,这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响,并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。

主要特点
1)可靠、坚固的基本单元;轻质铝制底座,所需的安装空间较小;玻璃工作腔室,带有指示工作距离的刻度
2)标配隔膜泵和涡轮泵;全量程真空测量(皮拉尼,冷阴极真空计)
3)试样载物台,高度可调且可倾斜;可选速度可控的旋转或行星齿轮样品台
4)标配FTM,可在两个位置(中心/边缘)使用
5)宽范围电源 (90-260 VAC)
6)TFT 触摸屏,配方可编程,保证结果可重复
7)可选辉光放电和/或等离子体处理(蚀刻)
8)可溅射氧化铟锡 (ITO) 和碳靶等镀膜“困难”的靶材

CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本:
CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪;CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪;CCU-010 HV高真空离子溅射和镀碳一体化镀膜仪;CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪

 

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